Khí laser

Khí laser chủ yếu được sử dụng cho quá trình ủ laser và khí quang khắc trong ngành công nghiệp điện tử. Nhờ sự đổi mới trong thiết kế màn hình điện thoại di động và sự mở rộng các lĩnh vực ứng dụng, quy mô thị trường polysilicon nhiệt độ thấp sẽ tiếp tục được mở rộng, và quá trình ủ laser đã cải thiện đáng kể hiệu suất của TFT. Trong số các loại khí neon, flo và argon được sử dụng trong laser excimer ArF để sản xuất chất bán dẫn, neon chiếm hơn 96% hỗn hợp khí laser. Với sự hoàn thiện của công nghệ bán dẫn, việc sử dụng laser excimer đã tăng lên, và sự ra đời của công nghệ phơi sáng kép đã dẫn đến sự gia tăng mạnh nhu cầu về khí neon tiêu thụ bởi laser excimer ArF. Nhờ sự thúc đẩy nội địa hóa các loại khí chuyên dụng cho điện tử, các nhà sản xuất trong nước sẽ có không gian tăng trưởng thị trường tốt hơn trong tương lai.

Máy khắc quang là thiết bị cốt lõi trong sản xuất chất bán dẫn. Quá trình khắc quang quyết định kích thước của các transistor. Sự phát triển đồng bộ của chuỗi công nghiệp khắc quang là chìa khóa cho sự đột phá của máy khắc quang. Các vật liệu bán dẫn phù hợp như chất cản quang, khí khắc quang, mặt nạ quang học, và thiết bị phủ và phát triển có hàm lượng công nghệ cao. Khí khắc quang là loại khí mà máy khắc quang tạo ra tia laser cực tím sâu. Các loại khí khắc quang khác nhau có thể tạo ra nguồn sáng có bước sóng khác nhau, và bước sóng của chúng ảnh hưởng trực tiếp đến độ phân giải của máy khắc quang, đây là một trong những yếu tố cốt lõi của máy khắc quang. Năm 2020, tổng doanh số bán máy khắc quang toàn cầu đạt 413 triệu chiếc, trong đó ASML bán được 258 chiếc chiếm 62%, Canon bán được 122 chiếc chiếm 30%, và Nikon bán được 33 chiếc chiếm 8%.