Bảng giá rẻ cho các loại khí đặc biệt Trung Quốc cung cấp điện tử/chất bán dẫn cấp độ tinh khiết 99,999% Carbon Tetrafluoride/Tetrafluoromethane CF4 Giá khí

“Chân thành, Đổi mới, Nghiêm túc và Hiệu quả” có thể là quan niệm bền bỉ của tổ chức chúng tôi trong thời gian dài để hợp tác lâu dài với khách hàng nhằm có đi có lại và cùng có lợi cho Bảng giá giá rẻ cho các loại khí đặc biệt Trung Quốc cung cấp Điện tử/Chất bán dẫn Cấp độ tinh khiết 99,999% Carbon Giá khí Tetrafluoride/Tetrafluoromethane CF4, Là một công ty trẻ đang phát triển, chúng tôi có thể không phải là công ty hiệu quả nhất, nhưng chúng tôi đang cố gắng hết sức để trở thành đối tác tuyệt vời của bạn.
“Chân thành, Đổi mới, Nghiêm túc và Hiệu quả” có thể là quan niệm bền bỉ của tổ chức chúng tôi trong việc hợp tác lâu dài với khách hàng vì sự có đi có lại và cùng có lợi choKhí CF4 và CF4 Trung Quốc, “Tạo ra giá trị, phục vụ khách hàng!” là mục tiêu chúng tôi theo đuổi. Chúng tôi chân thành hy vọng rằng tất cả khách hàng sẽ thiết lập sự hợp tác lâu dài và cùng có lợi với chúng tôi. Nếu bạn muốn biết thêm thông tin chi tiết về công ty của chúng tôi, hãy nhớ liên hệ với chúng tôi ngay bây giờ!

Thông số kỹ thuật

Carbon tetraflorua là một hydrocacbon halogen hóa có công thức hóa học CF4. Nó có thể được coi là hydrocacbon halogen hóa, metan halogen hóa, perfluorocarbon hoặc là một hợp chất vô cơ. Carbon tetraflorua là chất khí không màu, không mùi, không tan trong nước, tan trong benzen và cloroform. Ổn định ở nhiệt độ và áp suất bình thường, tránh các chất oxy hóa mạnh, các vật liệu dễ cháy hoặc dễ cháy. Khí không cháy, áp suất bên trong của bình chứa sẽ tăng lên khi tiếp xúc với nhiệt độ cao và có nguy cơ nứt, nổ. Nó ổn định về mặt hóa học và không dễ cháy. Chỉ thuốc thử kim loại amoniac-natri lỏng mới có thể hoạt động ở nhiệt độ phòng. Carbon tetraflorua là chất khí gây hiệu ứng nhà kính. Nó rất ổn định, có thể tồn tại lâu trong khí quyển và là một loại khí nhà kính rất mạnh. Carbon tetraflorua được sử dụng trong quá trình ăn mòn plasma của các mạch tích hợp khác nhau. Nó cũng được sử dụng làm khí laser và được sử dụng trong chất làm lạnh, dung môi, chất bôi trơn, vật liệu cách điện và chất làm mát ở nhiệt độ thấp cho máy dò hồng ngoại. Đây là loại khí khắc plasma được sử dụng nhiều nhất trong ngành vi điện tử. Nó là hỗn hợp của khí có độ tinh khiết cao tetrafluoromethane và khí có độ tinh khiết cao tetrafluoromethane và oxy có độ tinh khiết cao. Nó có thể được sử dụng rộng rãi trong silicon, silicon dioxide, silicon nitride và thủy tinh photphosilicate. Việc khắc các vật liệu màng mỏng như vonfram và vonfram cũng được sử dụng rộng rãi trong việc làm sạch bề mặt các thiết bị điện tử, sản xuất pin mặt trời, công nghệ laser, làm lạnh ở nhiệt độ thấp, kiểm tra rò rỉ và chất tẩy rửa trong sản xuất mạch in. Được sử dụng làm chất làm lạnh nhiệt độ thấp và công nghệ khắc khô plasma cho các mạch tích hợp. Lưu ý khi bảo quản: Bảo quản trong kho chứa gas không cháy, thoáng mát. Tránh xa nguồn lửa và nhiệt. Nhiệt độ bảo quản không được vượt quá 30°C. Nó phải được bảo quản riêng biệt với các chất dễ cháy (dễ cháy) và chất oxy hóa, đồng thời tránh bảo quản hỗn hợp. Khu vực lưu trữ phải được trang bị thiết bị xử lý khẩn cấp rò rỉ.

Ứng dụng:

① Chất làm lạnh:

Tetrafluoromethane đôi khi được sử dụng làm chất làm lạnh ở nhiệt độ thấp.

② Khắc:

Nó được sử dụng riêng lẻ trong chế tạo vi mô điện tử hoặc kết hợp với oxy làm chất ăn mòn plasma cho silicon, silicon dioxide và silicon nitride.

Gói thông thường:

Lợi thế:

①Độ tinh khiết cao, cơ sở vật chất mới nhất;

②Nhà sản xuất chứng chỉ ISO;

③Giao hàng nhanh;

④Hệ thống phân tích trực tuyến để kiểm soát chất lượng trong từng bước;

⑤Yêu cầu cao và quy trình xử lý xi lanh tỉ mỉ trước khi đổ đầy;